氧化铝研磨粉3μm

精细的氧化铝抛光粉制成用于化学机械抛光 (CMP) 工艺的浆料，具有快速的去除速率和受控的表面光洁度。微米级氧化铝粉末分散性好，切割力高，可用作抛光的水基悬浮液，可实现良好的表面和快速的去除速率。