C平面蓝宝石粗糙和最终抛光浆料特征

根据蓝宝石加工的CMP工艺特点,研制了水基碱性PH胶体二氧化硅。
根据蓝宝石加工的CMP工艺特点,研制了水基碱性PH胶体二氧化硅。
科纳蓝宝石胶体二氧化硅是专门为蓝宝石开发的,具有增加的磨料粒度,可以提高去除率,并且不影响高质量表面。
科纳蓝宝石胶体二氧化硅是专门为蓝宝石开发的,具有增加的磨料粒度,可以提高去除率,并且不影响高质量表面。
为C平面蓝宝石开发的铝粗糙和最终抛光浆料,具有快速的去除速率和受控的表面光洁度。
为C平面蓝宝石开发的铝粗糙和最终抛光浆料,具有快速的去除速率和受控的表面光洁度。

C面蓝宝石粗糙和最终抛光浆料应用

C面蓝宝石因其具有高透明度和硬度、耐磨损和耐刮擦、耐高温、不易断裂等特性,被广泛应用于LED基板材料和消费电子产品。


科纳为C面蓝宝石蓝宝石研磨提供碳化硼和金刚石浆料,增加磨料粒度二氧化硅胶体用于抛光,以实现良好的表面光洁度,还提供用于抛光的氧化铝浆料,具有更快的去除速率和受控的表面光洁度。


   Pro名称

   用于蓝宝石的二氧化硅胶体

基础磨料

   二氧化硅胶体

   外观

   白色液体

   Ph值

   9-12

   溶剂类型

   水基

   保质期

   12个月



   Pro名称

   C面蓝宝石抛光液

   基础磨料

   氧化铝

   外观

   白色浆

   Ph值

   9-14

   溶剂类型

   水基

   保质期

   12个月


C 面蓝宝石粗抛与精抛抛光液产品图集

C 面蓝宝石粗抛与精抛抛光液

C 面蓝宝石粗抛与精抛抛光液

C 面蓝宝石粗抛与精抛抛光液

C 面蓝宝石粗抛与精抛抛光液

浆料寿命长,镜面光洁度高


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+86-150 50430 858

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inquiry@polishingslurry.com

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